EUV暖和风潮时时 中国何以铰进半带体设备产业展

2019-02-28 09:14 来源:原创 网络编辑:locoy 阅读 报错

  国际半带体创造龙头叁星、台积电先后发表发出产将于2018年量产7纳米晶圆创造工艺。此雕刻壹音耗使得业界对半带体创造的关键设备之壹极紫外面光雕刻机(EUV)的关怀度父亲幅提升。以后又拥有媒体宣示,海外面内阁将对中国购置EUV实施限度局限,更是招伸了微少量帮群的眼神物。壹代之间,如同EUV成为了权衡中国半带体设备产业展滚程度的标注杆,没拥有拥有EUV就无法完成半带体强大国之梦。以当前中国半带体创造业的展滚程度,购置容许开辟EUV光雕刻机能否必要?中国应何以实在铰进半带体设备产业的展开?

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  EUV面向7nm和5nm节点

  所谓极紫外面光雕刻,是壹种运用于当代当世创造的光雕刻技术,它采取波长为10~14纳米的极紫外面光干为光源,却使曝光波长投降到13.5nm,此雕刻不单使光雕刻技术足以扩展到32nm工艺以下,更首要的是,它使纳米级时代的半带体创造流动程更其信募化,消费周期足以延年更加寿。

  赛迪智库半带体切磋所副所长林雨水就此向《中国电儿子报》记者说皓:“光雕刻是芯片创造技术的首要环节之壹。当前主流动的芯片创造是基于193nm光雕刻机终止的。条是193nm浸没拥有光雕刻技术很难顶顶40nm以下的工艺消费,故此到了22/20nm及以放工艺节点,不得不将193nm液浸技术和各种多重成像技术结合宗到来运用,以便打破开工艺极限。条是采取多重成像的顺手眼就需寻求终止累次光雕刻、折本雕刻、淀积等流动程,拥有形中提升了制形本钱,弹奏长了工艺周期。”

  故此,EUV技术淡色上是经度过提升技术本钱到来顶消工前言本钱和周期本钱。比如,依照格罗方道德的测算,展用EUV技术,在7nm和5nm节点,邑但需寻求1个光罩即却消费。此雕刻么即兴实下说,就却以宗到信募化工艺流动程,增添以消费周期的干用。

  对此,芯谋切磋尽监王乐龙便指出产:“EUV技术的研发首要是针对传统工艺中累次曝光等万端琐效实。在度过去的技术中,曝光经过能重骈2~3次,条是EUV技术却以壹次完成,既然增添以了工前言,又浪费了时间。在信募化工艺流动程、延年更加寿消费周期的同时,EUV也添加以了产能,提升了效力。”

  中国购置为时尚早

  针对EUV,在国际传臻着壹种音响:受正西方《瓦森纳协议》的限度局限,中国不得不买进到ASML的中低端产品,出产价又高,也无法购得ASML的高端设备。新来,ASML中国区尽裁剪金泳璇在接受《中国电儿子报》记者采访时否定了此雕刻壹说法。据金泳璇透漏:“国际某著名半带体晶圆厂即兴已与ASML展开7nm工艺制程EUV订单的相商工干,第壹台EUV设备落户于中国另日却待。”

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